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超純度的表面清潔--等離子清洗機
在工業(yè)生產(chǎn)過程中對電子元件、光學(xué)部件、機械零件、高分子材料等表面的超純度清洗,以消除極微小污垢顆粒,常常是一道非常關(guān)鍵的工藝。
傳統(tǒng)的清洗方式大多為濕法清洗,隨著現(xiàn)代高科技的不斷發(fā)展這種清洗方式已暴露出其致命的缺陷,即清洗干燥以后的清洗劑殘余和微小顆粒會附著在表面,已經(jīng)不能滿足現(xiàn)代高科技工藝的需求。
由于氣體對微小縫隙的滲透力遠遠大于液體,對于復(fù)雜形態(tài)的物體同樣可以得到徹底清洗的效果。
等離子清晰過程中起決定性的因素是無論常壓狀態(tài),還是真空狀態(tài),即使在室溫的條件下,等離子體都會和有機污染物產(chǎn)生反應(yīng),分解成水和二氧化碳等分子,并具有良好的揮發(fā)性。