常見問題解答
問 : 請問等離子清洗設(shè)備有哪些特點(diǎn)呢?
答 : 等離子清洗的技術(shù)特點(diǎn)是:它不分處理對象,可處理不同的基材,無論是金屬、半導(dǎo)體、氧化物還是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、環(huán)氧樹脂等高聚物)都可用等離子體很好地處理,因此,特別適合不耐熱和不耐溶劑的基底材料。而且還可以有選擇地對材料的整體、局部或復(fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行部分清洗。
等離子清洗的機(jī)理是依靠處于“等離子態(tài)”的物質(zhì)的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。從目前各類清洗方法來看,可能等離子體清洗也是所有清洗方法中徹底的剝離式的清洗了。
等離子清洗的機(jī)理是依靠處于“等離子態(tài)”的物質(zhì)的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。從目前各類清洗方法來看,可能等離子體清洗也是所有清洗方法中徹底的剝離式的清洗了。