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80L

名稱芯片封裝等離子清洗機(jī)

芯片封裝離不開等離子清洗機(jī),半導(dǎo)體的工藝要求越來越高,不少環(huán)節(jié)都必須使用等離子清洗才能夠達(dá)到要求,在一定條件下不僅能使樣品表面特性發(fā)生改變還能因?yàn)椴捎脷怏w作為清洗處理的介質(zhì),有效避免樣品的再次污染。
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芯片封裝等離子清洗機(jī)

  • 產(chǎn)品詳情
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半導(dǎo)體真空等離子清洗處理機(jī)-金鉑利萊

>> 1-1 設(shè)備概要

  真空等離子體清洗機(jī)(Vacuum Plasma cleaner),腔體容積為60L。芯片封裝等離子清洗機(jī)是一款以電能將氣體轉(zhuǎn)化為活性極高的氣體等離子體,氣體等離子體能輕柔沖刷固體樣品表面,引起分子結(jié)構(gòu)的改變,從而達(dá)到對(duì)樣品表面有機(jī)污染物進(jìn)行超清洗,在極短時(shí)間內(nèi)有機(jī)污染物就被外接真空泵徹底抽走,其清洗能力可以達(dá)到分子級(jí),在一定條件下不僅能使樣品表面特性發(fā)生改變還能因?yàn)椴捎脷怏w作為清洗處理的介質(zhì),有效避免樣品的再次污染。


>> 2-1 真空等離子處理機(jī)組成簡介

  等離子清洗機(jī)由反應(yīng)腔(又稱真空腔) 、 真空系統(tǒng)、 放電系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、 進(jìn)氣流量控制系統(tǒng)組成。本設(shè)備采用觸摸屏+PLC 可編程控制器, 處理參數(shù)可以在觸摸屏上任意設(shè)定, 具有手動(dòng)/自動(dòng)切換功能。 自動(dòng)操作采用“一鍵式” , 工作過程完全由計(jì)算機(jī)自動(dòng)控制完成。 手動(dòng)操作由用戶在手動(dòng)模式界面上自行完成.


半導(dǎo)體真空等離子清洗機(jī)工作原理圖-金鉑利萊.jpg


>>3-1 功能應(yīng)用及參數(shù)設(shè)置

1、晶片等離子清洗

2、半導(dǎo)體等離子蝕刻

3、LED 的封裝

4、ITO膜的蝕刻等

5、半導(dǎo)體封裝引線框架清洗活化

6、Silicon Wafer 晶圓表面去除光刻膠與活化

......(等等)


系統(tǒng)標(biāo)準(zhǔn)配件

設(shè)備尺寸

1105W*1488D*1842Hmm2158mm帶信號(hào)燈高度)

水平極板

8

電極板

402W*450Dmm

氣體流量控制器,2路工藝氣體

0-300 ml/min

真空測(cè)量

日本ulvac真空計(jì)

人機(jī)界面觸摸屏

自主研發(fā)

電極向距

48mm

信號(hào)指示燈

3色帶警報(bào)

真空泵

90m3/h雙極油泵

系統(tǒng)電力&機(jī)械

電源:AC380V,50/60Hz

額定功率5000W

系統(tǒng)重量(設(shè)備主機(jī)/真空泵)

600Kg

占地面積:設(shè)備主機(jī)

1805(W)×1988(D)×1842(H)mm

射頻電源

射頻電源頻率

13.56MHz

射頻電源功率

1000W

射頻電源匹配器

全自動(dòng)匹配,優(yōu)良的空氣電容技術(shù)

設(shè)備必備條件

電源:AC380V,50/60Hz,三相五線

7.5KVA

壓縮空氣要求

無水無油CDA 6090psig

抽風(fēng)系統(tǒng)

≥2立方/分鐘,中央尾氣處理管道即可

系統(tǒng)環(huán)境溫度要求

30(室溫最佳)

工藝氣體要求

1520psig 99.996%或以上純度


■ 針對(duì)LED,IC封裝工序設(shè)計(jì)。

■ 配備自動(dòng)上片,傳輸,清洗,收片等功能。

■ 高度自動(dòng)化作業(yè),減少人員干預(yù),降低二次污染風(fēng)險(xiǎn)。

■  模塊化設(shè)計(jì),組件更換靈活,切換產(chǎn)品快速。

■ 采用13.56MHZ電源,清洗時(shí)間短,無濺射,溫度低。

■ 運(yùn)行過程實(shí)時(shí)監(jiān)控,動(dòng)畫指示工作過程,一目了然。

■ 設(shè)備操作權(quán)限分級(jí)管理,便于管控。

■ 設(shè)備運(yùn)行狀態(tài)可追索,生產(chǎn)過程可管控。

■ 故障報(bào)警可追索,有提示,快速排查故障部位,便于維護(hù)。


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定制:芯片封裝等離子清洗機(jī)

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